本实用新型公开了一种改进型低温低应力化学镀铜装置，包括反应箱，所述反应箱内装有电解质溶液，所述反应箱的下端设有正极接线柱和负极接线柱，所述正极接线柱和负极接线柱分别与电源的正、负极电连接，所述正极接线柱位于反应箱内的一端上安装有旋转接头，所述旋转接头上设置有待镀金属板，所述负极接线柱上设置有铜板，所述反应箱的侧壁上滑动连接有用于搅拌电解质溶液的搅拌机构。本实用新型通过设置旋转机构和搅拌机构，可以搅拌电解质溶液，加速铜离子在溶液中的移动速率，使溶液浓度保持均匀，提高镀铜反应速率，且旋转待镀金属板，使其正反两面镀铜速率保持一致，保证正反面的镀铜厚度一样。