一种磁控溅射银镜
授权
摘要
本实用新型公开了一种磁控溅射银镜，包括玻璃基板，还包括依次叠加设置在所述玻璃基板一表面的附着力层、镜面颜色调试层、第一金属反射层、第二金属反射层、保护层、底漆层和面漆层。本实用新型和现有技术相比，除底漆层与面漆层外，其他所有镀层均采用磁控溅射镀膜，避免了硝酸银化学法制镜造成的重金属污染，而且工艺简单、稳定、膜层均匀性良好。使用化学活性低的金属铬替代部分金属银，既节约了成本，同时对银层有一定的保护作用。增加附着力层和保护层，使整个膜层更牢固。增加镜面颜色调试层，既可提升镜面反射又可做成色镜。本实用新型在保证银镜的反射率大于90％的前提下，银的使用量从65.3nm降低到了27nm；色镜用Ag量小于27nm，反射率均高于80％。
基本信息
专利标题 ：
一种磁控溅射银镜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921130375.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-18
授权号 ：
CN210287503U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
林孝发林孝山张洁林邓小清詹明远
申请人 ：
福建西河卫浴科技有限公司
申请人地址 ：
福建省泉州市南安市仑苍镇高新技术园
代理机构 ：
厦门市首创君合专利事务所有限公司
代理人 ：
张松亭
优先权 ：
CN201921130375.4
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/06 C23C14/10 C23C14/08 C23C14/18 G02B5/08
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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