曲面曝光装置
授权
摘要

本实用新型提供了一种曲面曝光装置,包括支架、控制机构、载物机构和设于所述支架上的光学投影机构,所述载物机构具有载物台以及驱动件,所述光学投影机构沿第一方向向所述载物台出射光,所述驱动件驱动所述载物台以垂直于所述第一方向的第一轴线翻转;所述控制机构连接并控制所述驱动件,其包括用于获取待曝光区域的表面形状信息的获取单元,以及路径控制单元,所述路径控制单元用于根据所述表面形状信息控制所述驱动件驱动所述载物台绕所述第一轴线翻转,使所述载物台最多只有部分位于所述光的出射路径上。这样,不需要制作治具,可节省大量的时间和成本,同时精准控制曝光区域,提高产品合格率。

基本信息
专利标题 :
曲面曝光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921174251.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-24
授权号 :
CN210199507U
授权日 :
2020-03-27
发明人 :
蔡志国江俊龙
申请人 :
苏州微影激光技术有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市高新区火炬路85号
代理机构 :
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
沈晓敏
优先权 :
CN201921174251.6
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G03F7/24  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-03-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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