一种3D曲面玻璃屏阵列曝光对位托盘
授权
摘要
本实用新型公开了一种3D曲面玻璃屏阵列曝光对位托盘，包括托盘本体和对位框，所述托盘本体上均匀分布有多个呈矩阵排列的吸盘，所述对位框上设置有多个呈矩阵分布的矩形对位槽，所述对位框平铺在托盘本体上，所述吸盘伸入到矩形对位槽中，所述托盘本体的四周边缘位置设置有限位框，所述限位框的上表面高度大于托盘本体的表面高度，所述对位框的四周侧边抵接在限位框上，所述吸盘位于矩形对位槽中时，所述吸盘贴近矩形对位槽的一个顶角，并且多个吸盘贴近的顶角位置相同。本实用新型的对位托盘能够将多个曲面玻璃屏进行更整齐的排列，保证玻璃屏的曝光加工质量。
基本信息
专利标题 ：
一种3D曲面玻璃屏阵列曝光对位托盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921915515.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-07
授权号 ：
CN210442635U
授权日 ：
2020-05-01
发明人 ：
任兵李希牛建超张源松郭成伟
申请人 ：
河北叁迪光学科技有限公司
申请人地址 ：
河北省石家庄市辛集经济开发区兴业街与盛兴西路交叉口北行300米路西
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921915515.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-05-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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