一种用于制备氧化钼纳米片表面增强拉曼散射基底的装置

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摘要

本实用新型涉及分子检测技术领域，具体涉及一种用于制备氧化钼纳米片表面增强拉曼散射基底的装置，包括石英管、活动套设于石英管外壁的移动加热圈、放置于石英管内部用于承载氧化钼粉末的坩埚以及放置于石英管内部的衬底，坩埚的顶部设置有遮挡片；石英管的一端设置有进气连接件、另一端设置有出气连接件。本实用新型的气相沉积装置结构新颖，易于操作使用，采用气相沉积的方法，通过移动加热圈对石英管对应坩埚的位置进行加热，使得氧化钼粉末升华，然后移走移动加热圈，撤离热源，使得升华后的氧化钼在较低温的衬底表面形成大面积的氧化钼纳米薄层，并能使制得的氧化钼纳米薄层检测限高，均匀性好，稳定性优异，实用性高。

基本信息

专利标题：

一种用于制备氧化钼纳米片表面增强拉曼散射基底的装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921225236.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-07-31

授权号：

CN210322798U

授权日：

2020-04-14

发明人：

陈秋兰陈建金浩宇刘虔铖

申请人：

广东食品药品职业学院

申请人地址：

广东省广州市天河区龙洞北路321号

代理机构：

深圳科湾知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

钟斌

优先权：

CN201921225236.X

主分类号：

G01N21/65

IPC分类号：

G01N21/65