一种曝光辅助工装
授权
摘要

本实用新型提供一种曝光辅助工装,包括版架、固定模块、限位模块、接地模块和机器识别模块,所述版架内设置有方形凹槽,所述方形凹槽的中心区域设置为曝光区域;所述限位模块包括限位件和一对平行的限位侧边,所述限位侧边设置在所述版架的侧边上,所述限位侧边之间且在所述版架侧边上还设置有连接挡边,所述限位件安装在所述连接挡边上;所述固定模块成对设置且安装在所述连接挡边上;所述接地模块设置在所述固定模块之间。本实用新型解决了电子束曝光机适用产品尺寸的局限性,提高使用效率及可曝光产品的多样性,且降低模块重量,降低生产成本;被曝光产品与版架接触面积大,受力小,形变低。

基本信息
专利标题 :
一种曝光辅助工装
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921313637.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-13
授权号 :
CN210222482U
授权日 :
2020-03-31
发明人 :
张宾
申请人 :
无锡迪思微电子有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市太湖国际科技园菱湖大道180号-6
代理机构 :
无锡市朗高知识产权代理有限公司
代理人 :
邱晓琳
优先权 :
CN201921313637.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-03-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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