纳米颗粒粒径测量系统
授权
摘要

本申请提供一种纳米颗粒粒径测量系统。在匹配液中放置有第一光阻断结构和第二光阻断结构。第一光阻断结构设置于入射光束正向延长线上,用以吸收和反射光束,使其无法到达匹配池壁面与空气交界处发生反射。第二光阻断结构设置于多个散射光通孔接收的散射光束的反向延长线上,用于吸收和反射测量接收角互补角上的散射光束,使其无法到达匹配池壁面与空气交界处发生反射。通过匹配液、第一光阻断结构以及第二光阻断结构可以极大程度上减少传统纳米颗粒粒径测量系统中样品池壁面反射光的影响,并避免多个散射光通孔接收自身角度的散射光信号中混入反射光信息,从而大幅提高了测量结果的准确性。

基本信息
专利标题 :
纳米颗粒粒径测量系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921368547.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-21
授权号 :
CN210571846U
授权日 :
2020-05-19
发明人 :
黄鹭高思田施玉书李伟李琪
申请人 :
中国计量科学研究院
申请人地址 :
北京市朝阳区北三环东路18号
代理机构 :
北京华进京联知识产权代理有限公司
代理人 :
魏朋
优先权 :
CN201921368547.1
主分类号 :
G01N15/02
IPC分类号 :
G01N15/02  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N15/00
测试颗粒的特性;测试多孔材料的渗透性,孔隙体积或者孔隙表面积
G01N15/02
测试颗粒的粒度或粒经分布
法律状态
2020-05-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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