一种用于曝光机的大幅面LED平行光阵列
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于曝光机的大幅面LED平行光阵列，其包括透镜阵列基板、透镜、导热硅胶片、紫外发光二极管、紫外发光二极管阵列板和水冷板；所述的导热硅胶片覆盖在水冷板上方，紫外发光二极管间隔安装在紫外发光二极管阵列板上，紫外发光二极管阵列板安装在导热硅胶片上方，透镜阵列基板设于紫外发光二极管阵列板上方，透镜间隔安装在透镜阵列基板上且与紫外发光二极管相互对应设置对应。本实用新型在光源处设置水冷板，通过导热硅胶片传递热量，降低温度，可以防止工作时产生大量的热量导致LED灯以及线路发生故障，为曝光提供保障。
基本信息
专利标题 ：
一种用于曝光机的大幅面LED平行光阵列
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921402109.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-27
授权号 ：
CN210864318U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
李明之朱伟杰肖福登
申请人 ：
爱司凯科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市中新广州知识城九佛建设新街18号自编112房
代理机构 ：
杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
王桂名
优先权 ：
CN201921402109.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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