一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头
授权
摘要
一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头，包括环形主体，所述环形主体由环状的上部和下部组成，所述上部由金属制成，所述下部由塑料制成并且具有用作抛光液通道的凹槽，所述上部和下部通过结合层结合为一体，所述结合层含有吸波材料以防止保持环反射电磁波或产生电涡流。
基本信息
专利标题 ：
一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921656271.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-30
授权号 ：
CN211193454U
授权日 ：
2020-08-07
发明人 ：
赵德文刘远航孟松林
申请人 ：
清华大学;华海清科股份有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区清华园1号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921656271.7
主分类号 ：
B24B37/32
IPC分类号 ：
B24B37/32 B24B37/013 B24B49/10
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/27
工件载体
B24B37/30
用于平面的单侧研磨
B24B37/32
保持环
法律状态
2020-08-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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