一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头
授权
摘要
本实用新型公开了一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头，所述化学机械抛光保持环包括环形部，所述环形部包括金属部和非金属部，所述金属部设置于非金属部的上侧并通过粘接层结合形成为层叠结构；其中，所述金属部的顶面和外侧面涂覆有防护层，以防止金属离子及其他污染物对晶圆制程影响。
基本信息
专利标题 ：
一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020560952.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-16
授权号 ：
CN211163459U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
孟松林赵德文李长坤倪孟骐
申请人 ：
华海清科股份有限公司
申请人地址 ：
天津市津南区咸水沽海河科技园聚兴道9号8号楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020560952.X
主分类号 ：
B24B37/32
IPC分类号 ：
B24B37/32 B24B37/34
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/27
工件载体
B24B37/30
用于平面的单侧研磨
B24B37/32
保持环
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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