一种可调节的微孔薄膜沉积装置及微孔薄膜、二次电池
授权
摘要
本申请公开了一种可调节的微孔薄膜表面沉积装置及微孔薄膜、二次电池,涉及二次电池用隔膜制造领域。本申请通过在内筒体内划分若干不同的通气区域，并在不同通气区域内通入特定气体，使薄膜在绕内筒体一周的范围内，分区域成绩从内筒体筒壁上的通气孔透出的反应气体，即可实现多次的ALD循环。此外，本申请通过设置隔板和中心轴，隔板与中心轴滑动连接，使用时能够调节两个隔板之间的距离，进而调整通气区域的宽度，以控制第一反应气体、第二反应气体或非反应气体在不同通气区域的通气量。
基本信息
专利标题 ：
一种可调节的微孔薄膜沉积装置及微孔薄膜、二次电池
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921720330.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-15
授权号 ：
CN211645380U
授权日 ：
2020-10-09
发明人 ：
王晓明魏凤杰
申请人 ：
江苏卓高新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市溧阳市昆仑街道码头西街617号
代理机构 ：
苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司
代理人 ：
吴筱娟
优先权 ：
CN201921720330.2
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54 C23C16/455 H01M2/14 H01M2/16 C23C16/40
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2020-10-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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