本实用新型公开了一种立式真空均温加热腔体，包括机架、立式腔体、真空泵、加热单元、均温控制组件和温控箱。立式腔体固设在机架上方，立式腔体的侧壁中部位置开设有真空抽气口，真空泵通过法兰与真空抽气口连接，加热单元固设在立式腔体的内部上部。均温控制组件包括散热风扇、温度传感器、第一温度监控装置和第二温度监控装置，散热风扇固定安装在立式腔体内部的顶部并朝下吹风，温度传感器设在加热单元的上方。第一温度监控装置和第二温度监控装置固设在立式腔体内部并分别位于真空抽气口的上方和下方。本实用新型能够使整个真空加热腔体有效地达到温度的均匀性，使预烤的晶片能够有效地达到去水汽的功效，在调节温度的同时实现精确控温。