半导体硅晶柱内部瑕疵影像检测设备
授权
摘要

本实用新型公开一种半导体硅晶柱内部瑕疵影像检测设备,包括有机架、电控箱、转环装置、取像装置以及打标装置;该机架上具有进料槽和出料槽,该进料槽和出料槽中均设置有传送装置,出料槽与进料槽之间形成有运转空间;该转环装置竖向设置于机架内并位于运转空间中,转环装置包括有转环和第一驱动机构,该第一驱动机构与电控箱连接并带动转环运转;该取像装置和打标装置均设置于转环上随转环转动。通过配合利用电控箱、转环装置、取像装置和打标装置,可对半导体硅晶柱进行全方位的拍照和打标记,实现对半导体硅晶柱内部瑕疵的全面检测,使得后续在切割的过程中,可避开有内部瑕疵的位置,从而有效节省时间、人力和成本。

基本信息
专利标题 :
半导体硅晶柱内部瑕疵影像检测设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921754094.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-18
授权号 :
CN210982247U
授权日 :
2020-07-10
发明人 :
林火旺刘立清廖文民
申请人 :
东莞市庆颖智能自动化科技有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市塘厦镇清湖头社区高丽五路15号B栋一楼
代理机构 :
厦门市新华专利商标代理有限公司
代理人 :
吴成开
优先权 :
CN201921754094.6
主分类号 :
G01N21/88
IPC分类号 :
G01N21/88  G01N21/89  G01N21/01  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2020-07-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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