本实用新型公开了一种本实用新型公开了一种单晶碳化硅晶片的清洗装置，包括底板，所述底板的一侧内部固定连接有底座，所述底座的内部中心处固定连接有第一电机，所述第一电机的转动轴的顶端固定连接有转盘，所述转盘的顶端固定连接有多个吸盘，所述底板的底端固定连接有废液槽，所述底板的中心处固定连接有升降槽，所述升降槽的底端中心处固定连接有第五电机，所述第五电机的转动轴的顶端固定连接有螺纹杆，所述升降座的内部中心处螺纹传动连接有螺纹杆，本实用新型通过多个电机和转动座的设置，实现清洗喷头的多轴转动，通过转盘旋转晶片，配合喷头的多轴转动，对晶片实现全方位的清洗，增加清洗面积，减少单点水流预清洗使用的时间。