一种大量程成像式双折射分布测量装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
本实用新型公开了一种大量程成像式双折射分布测量装置,该测量装置包括:光源模块,其接收控制与数据处理模块信号,选择并输出测量所用波长的光束,透射照明被测材料样品;成像镜组,其将经被测材料样品的出射光束投影到光电探测器上;可变偏振态发生器,其位于被测材料样品两侧的光路中,根据控制与数据处理模块输入的电信号,改变光束的偏振态,提供光束的起偏、检偏或相位延迟;光电探测器,其将采集的光强分布转化为电信号输出给控制与数据处理模块运算,最终呈现被测物双折射分布结果。本实用新型解决了现有双折射分布测量技术存在的测量速度相对较慢、相位延迟量量程受限的问题。
基本信息
专利标题 :
一种大量程成像式双折射分布测量装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922141866.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-04
授权号 :
CN211122503U
授权日 :
2020-07-28
发明人 :
陈宽陈国飞曾爱军葛士军胡伟
申请人 :
南京先进激光技术研究院;苏州晶萃光学科技有限公司
申请人地址 :
江苏省南京市经济技术开发区恒园路1号龙港科技园A楼
代理机构 :
南京睿之博知识产权代理有限公司
代理人 :
杨晓玲
优先权 :
CN201922141866.5
主分类号 :
G01N21/23
IPC分类号 :
G01N21/23 G01N21/21
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/21
影响偏振的性质
G01N21/23
双折射
法律状态
2022-01-14 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G01N 21/23
变更事项 : 专利权人
变更前 : 南京先进激光技术研究院
变更后 : 南京先进激光技术研究院
变更事项 : 地址
变更前 : 210038 江苏省南京市经济技术开发区恒园路1号龙港科技园A楼
变更后 : 210038 江苏省南京市经济技术开发区恒园路1号龙港科技园A楼
变更事项 : 专利权人
变更前 : 苏州晶萃光学科技有限公司
变更后 : 南京晶萃光学科技有限公司
变更事项 : 专利权人
变更前 : 南京先进激光技术研究院
变更后 : 南京先进激光技术研究院
变更事项 : 地址
变更前 : 210038 江苏省南京市经济技术开发区恒园路1号龙港科技园A楼
变更后 : 210038 江苏省南京市经济技术开发区恒园路1号龙港科技园A楼
变更事项 : 专利权人
变更前 : 苏州晶萃光学科技有限公司
变更后 : 南京晶萃光学科技有限公司
2020-07-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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