一种查看靶材晶粒的电解抛光装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种查看靶材晶粒的电解抛光装置,包括盛放电解液的容器,所述容器的开口处固定设有承载板,所述承载板居中放置有打磨器,所述打磨器两侧所在的承载板上设有负极端口和正极端口,所述负极端口处插设有一端浸没在电解液中的不锈钢片,所述正极端口处安装有一端浸没在电解液中的漏网,所述漏网能将放置其内的铝制晶粒完全浸没在电解液中;所述容器外部设置有直流电源,所述直流电源的负极与不锈钢片通过导线连接、正极与铝制晶粒通过导线连接。通过打磨机进行初步打磨后进行电化学抛光,可将铝制晶粒的整体抛光时间缩短到约5分钟左右,减轻劳动强度,抛光效果佳。

基本信息
专利标题 :
一种查看靶材晶粒的电解抛光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922348141.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-24
授权号 :
CN211057271U
授权日 :
2020-07-21
发明人 :
高奇峰常艳超中村晃尤小磊徐东起丁静仁程小明王冬振董常亮董意男
申请人 :
爱发科电子材料(苏州)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市苏州工业园区平胜路55号
代理机构 :
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
许云峰
优先权 :
CN201922348141.3
主分类号 :
C25F3/20
IPC分类号 :
C25F3/20  C25F7/00  B24B31/10  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法;其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/16
抛光
C25F3/18
轻金属的
C25F3/20
铝的
法律状态
2020-07-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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