本实用新型涉及一种靶材抛光机构，包括用于放置靶材的轨道跑台；通过第一转轴可转动连接在所述轨道跑台上的抛光活动臂；设置在所述抛光活动臂远离所述第一转轴一端的抛光件；还包括设置在所述轨道跑台上并与所述抛光活动臂相连接以调节所述抛光活动臂的抛光极限位置的可调定位装置，每次靶材抛光前，先测量靶材的外径，根据抛光要求调节该可调定位装置的高度，抛光过程中只要将抛光活动臂压到不能再下压即可，可避免人工用力过度，抛光件下压过量等，确保靶材加工外径整体一致性，抛光结束后，抛光活动臂自动回弹，避免抛光件下压，造成非人为加工异常。