一种适用于真空镀膜的衬底冷却装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种适用于真空镀膜的衬底冷却装置，涉及真空蒸镀装置技术领域。用于真空镀膜的衬底冷却装置，包括基板、材料仓和降温腔，所述基板的内部开设有材料仓，材料仓周围开设有降温腔，所述基板的底部设置有第一降温管、第二降温管和第三降温管，所述降温腔的内部开设有与第一降温管、第二降温管和第三降温管相适配的孔。适用于真空镀膜的衬底冷却装置，主要通过设置第一降温管内所通的高温水，对其所需要降温的材料进行小幅度的降温，其次，第二、三降温管进行缓慢的降温，对材料和坩埚起到了良好的保护作用，有效的避免了直接冷却降温对材料和坩埚本身造成的损害。
基本信息
专利标题 ：
一种适用于真空镀膜的衬底冷却装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922399071.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-27
授权号 ：
CN211497763U
授权日 ：
2020-09-15
发明人 ：
鲁朝宇张丽娟邓荣斌段尧马兴民方江璨高思博
申请人 ：
云南北方奥雷德光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
云南省昆明市五华区教场东路31号
代理机构 ：
昆明祥和知识产权代理有限公司
代理人 ：
张亦凡
优先权 ：
CN201922399071.4
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-09-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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