一种晶圆加工用湿法清洗设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种晶圆加工用湿法清洗设备，包括支架、清洗槽、放置框、连接杆、滑板、螺纹杆、固定板、升降电机、滑杆和晶圆架，支架顶部固定有清洗槽，清洗槽内壁设有放置框，放置框两侧对称固定有连接杆，放置框两端的两个连接杆一端固定有滑板，滑板中部开设有螺纹孔，螺纹孔内壁螺纹连接有螺纹杆，且螺纹杆底部通过轴承与清洗槽底部转动连接，清洗槽内壁顶部对称固定有固定板，螺纹杆顶部通过轴承与固定板转动连接，固定板中部固定有升降电机，且升降电机的输出端与螺纹杆固定连接，滑板两端通过导套对称滑动连接有滑杆，此晶圆加工用湿法清洗设备便于人们取放晶圆架、且清洗效率较高，便于人们使用。
基本信息
专利标题 ：
一种晶圆加工用湿法清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922459023.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-30
授权号 ：
CN211587742U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
郑东来缪小波
申请人 ：
江苏嘉兆电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市海门市临江镇洞庭湖路100号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922459023.X
主分类号 ：
B08B3/10
IPC分类号 ：
B08B3/10 B08B13/00 B08B11/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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