研磨垫及以该研磨垫进行的研磨方法
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摘要
本发明关于一种研磨垫，其由基材、以及形成于基材上的吸附层及研磨层所构成。吸附层含有由选自包含仅在两末端具有乙烯基的直链状聚有机硅氧烷的聚硅氧等中的至少1种聚硅氧所交联成的组合物。此外，本发明的特征为在吸附层上具备沿着研磨垫外周的环状屏蔽构件。该研磨垫为在研磨作业时将该吸附层吸附、固定于平台并将研磨浆液供给至研磨层上而使用。本发明中，环状屏蔽构件可抑制研磨浆液侵入吸附层与平台间的界面。
基本信息
专利标题 ：
研磨垫及以该研磨垫进行的研磨方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111819033A
申请号 ：
CN201980017337.4
公开（公告）日 ：
2020-10-23
申请日 ：
2019-05-07
授权号 ：
CN111819033B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
矢岛利康二宫大辅
申请人 ：
丸石产业株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都品川区南品川1-8-9
代理机构 ：
北京戈程知识产权代理有限公司
代理人 ：
程伟
优先权 ：
CN201980017337.4
主分类号 ：
B24B37/24
IPC分类号 ：
B24B37/24 B24B37/22 H01L21/304
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/11
研具
B24B37/20
用于加工平面的研磨垫
B24B37/24
以垫的材料成分或特性为特征
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2020-12-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 37/24
申请日 : 20190507
申请日 : 20190507
2020-10-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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