研磨垫、研磨垫的制造方法以及研磨方法
实质审查的生效
摘要
一种研磨垫，其包括具有研磨面的研磨层，研磨面具备：深槽区域，其具有由深度0.3mm以上的深槽或孔形成的第一图案；台面区域，其是除深槽区域以外的区域；台面区域具有：深度0.01～0.1mm的浅凹陷，其具有第二图案；多个岛状的台面部，其由浅凹陷包围，且水平方向的最大距离为8mm以下。
基本信息
专利标题 ：
研磨垫、研磨垫的制造方法以及研磨方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114286737A
申请号 ：
CN202080039388.X
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2020-06-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
加藤充菊池博文冈本知大加藤晋哉
申请人 ：
株式会社可乐丽
申请人地址 ：
日本冈山县
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
谢辰
优先权 ：
CN202080039388.X
主分类号 ：
B24B37/24
IPC分类号 ：
B24B37/24 B24B37/26 B24B53/017 H01L21/304
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/11
研具
B24B37/20
用于加工平面的研磨垫
B24B37/24
以垫的材料成分或特性为特征
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 37/24
申请日 : 20200604
申请日 : 20200604
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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