研磨垫及研磨垫的制造方法

专利申请权、专利权的转移

摘要

本发明的目的在于，提供一种研磨垫，其在进行研磨的状态下进行高精度的光学终点检测，即使在长时间使用的情况下，也可以防止来自研磨区域与透光区域之间的漏浆。本发明的研磨垫将具有研磨区域及透光区域的研磨层和具有比透光区域小的开口部(B)的缓冲层层叠，使得透光区域与开口部(B)重合，并且在所述透光区域的背面与所述开口部(B)的断面的接触部分，设有将该接触部分覆盖的环状的不透水性弹性构件。

基本信息

专利标题：

研磨垫及研磨垫的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN102554766A

申请号：

CN201210004655.7

公开（公告）日：

2012-07-11

申请日：

2005-12-08

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

小川一幸下村哲生数野淳中井良之渡边公浩山田孝敏中森雅彦

申请人：

东洋橡胶工业株式会社

申请人地址：

日本国大阪府

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

蒋亭

优先权：

CN201210004655.7

主分类号：

B24B37/22

IPC分类号：

B24B37/22

IPC结构图谱

B部——作业；运输

B24

磨削；抛光

B24B

用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给

B24B37/00

研磨机床或装置；附件

B24B37/11

研具

B24B37/20

用于加工平面的研磨垫

B24B37/22

以多层结构为特征

法律状态

2016-10-12 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101739880335
IPC(主分类) : H01L 21/304
专利号 : ZL2012100046557
登记生效日 : 20160914
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 东洋橡胶工业株式会社
变更后权利人 : 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本国大阪府
变更后权利人 : 美国特拉华州

2014-11-05 ：

授权

2012-09-12 ：

实质审查的生效

号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101324728665
IPC(主分类) : B24B 37/22
专利申请号 : 2012100046557
申请日 : 20051208

2012-07-11 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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