研磨垫及研磨垫的制造方法

专利申请权、专利权的转移

摘要

本发明的目的在于，提供一种研磨垫，其在进行研磨的状态下进行高精度的光学终点检测，既使在长时间使用的情况下，也可以防止来自研磨区域与透光区域之间的漏浆。本发明的研磨垫在研磨区域(8)及透光区域(9)的单面设有防透水层(10)，并且透光区域与防透水层由相同材料一体化形成。

基本信息

专利标题：

研磨垫及研磨垫的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101659035A

申请号：

CN200910169164.6

公开（公告）日：

2010-03-03

申请日：

2005-12-08

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

小川一幸下村哲生数野淳中井良之渡边公浩山田孝敏中森雅彦

申请人：

东洋橡胶工业株式会社

申请人地址：

日本国大阪府

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

李贵亮

优先权：

CN200910169164.6

主分类号：

B24B37/04

IPC分类号：

B24B37/04 H01L21/02

IPC结构图谱

B部——作业；运输

B24

磨削；抛光

B24B

用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给

B24B37/00

研磨机床或装置；附件

B24B37/04

适用于加工平面的

法律状态

2016-10-12 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101739880333
IPC(主分类) : B24B 37/20
专利号 : ZL2009101691646
登记生效日 : 20160914
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 东洋橡胶工业株式会社
变更后权利人 : 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本国大阪府
变更后权利人 : 美国特拉华州

2012-07-18 ：

授权

2010-04-28 ：

实质审查的生效

号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101001219623
IPC(主分类) : B24B 37/04
专利申请号 : 2009101691646
申请日 : 20051208

2010-03-03 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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