研磨垫及研磨垫的制造方法
专利申请权、专利权的转移
摘要
本发明的目的在于，提供一种研磨垫，其在进行研磨的状态下进行高精度的光学终点检测，即使在长时间使用的情况下，也可以防止来自研磨区域与透光区域之间的漏浆。本发明的研磨垫在研磨区域(8)及透光区域(9)的单面设有防透水层(10)，并且透光区域与防透水层由相同材料一体化形成。
基本信息
专利标题 ：
研磨垫及研磨垫的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101072657A
申请号 ：
CN200580042055.8
公开（公告）日 ：
2007-11-14
申请日 ：
2005-12-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小川一幸下村哲生数野淳中井良之渡边公浩山田孝敏中森雅彦
申请人 ：
东洋橡胶工业株式会社
申请人地址 ：
日本国大阪府
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
李贵亮
优先权 ：
CN200580042055.8
主分类号 ：
B24B37/00
IPC分类号 ：
B24B37/00 H01L21/304 B24B37/04
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
法律状态
2016-10-12 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101739880330
IPC(主分类) : B24B 37/14
专利号 : ZL2005800420558
登记生效日 : 20160914
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 东洋橡胶工业株式会社
变更后权利人 : 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本国大阪府
变更后权利人 : 美国特拉华州
号牌文件序号 : 101739880330
IPC(主分类) : B24B 37/14
专利号 : ZL2005800420558
登记生效日 : 20160914
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 东洋橡胶工业株式会社
变更后权利人 : 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本国大阪府
变更后权利人 : 美国特拉华州
2012-09-05 ：
授权
2008-01-09 ：
实质审查的生效
2007-11-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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