用于金属的化学机械抛光的组合物及方法
授权
摘要
用于对基板进行抛光的化学机械抛光组合物，其包含：液体载剂；以及分散于该液体载剂中的阳离子型金属氧化物研磨剂颗粒。该阳离子型金属氧化物研磨剂颗粒具有经至少一种化合物改性的表面，该至少一种化合物由具有至少一个季铵基的甲硅烷基组成。用于对包括金属层的基板进行化学机械抛光的方法，其包括：使该基板与上述抛光组合物接触，相对于该基板移动该抛光组合物，以及研磨该基板以自该基板移除该金属层的一部分且由此对该基板进行抛光。
基本信息
专利标题 ：
用于金属的化学机械抛光的组合物及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113166587A
申请号 ：
CN201980080181.4
公开（公告）日 ：
2021-07-23
申请日 ：
2019-11-13
授权号 ：
CN113166587B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
S.克拉夫特F.孔罗D.克林格曼R.A.伊瓦诺夫S.格伦宾
申请人 ：
CMC材料股份有限公司
申请人地址 ：
美国伊利诺伊州
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
邢岳
优先权 ：
CN201980080181.4
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 C09K3/14 B24B37/005 B24B37/04 B24B57/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2021-08-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20191113
申请日 : 20191113
2021-07-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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