用于介电质化学机械抛光的组合物及方法
公开
摘要
用于抛光具有硅氧材料的基板的化学机械抛光组合物，其包含以下、由以下组成或基本上由以下组成：液体载剂；立方形铈土研磨剂颗粒，其分散于该液体载剂中；及具有小于约6meq/g的电荷密度的阳离子聚合物。
基本信息
专利标题 ：
用于介电质化学机械抛光的组合物及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114616300A
申请号 ：
CN202080073986.9
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2020-10-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
S.布罗斯南S.克拉夫特F.孔罗B.佩特罗张娜J.特鲁法S.帕利卡拉库蒂亚图尔
申请人 ：
CMC材料股份有限公司
申请人地址 ：
美国伊利诺伊州
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
邢岳
优先权 ：
CN202080073986.9
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 H01L21/306
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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