用于抛光铜膜的CMP浆料组合物和用其抛光铜膜的方法
授权
摘要
本发明涉及一种用于铜膜的化学机械抛光浆料组合物和使用其来抛光铜膜的方法。化学机械抛光浆料组合物包含：自极性溶剂和非极性溶剂当中选出的至少一溶剂；以及硅烷改性的抛光颗粒，其中硅烷由式1表示。
基本信息
专利标题 ：
用于抛光铜膜的CMP浆料组合物和用其抛光铜膜的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112680109A
申请号 ：
CN202011111565.9
公开（公告）日 ：
2021-04-20
申请日 ：
2020-10-16
授权号 ：
CN112680109B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
金亨默张根三姜东宪李锺元
申请人 ：
三星SDI株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
马爽
优先权 ：
CN202011111565.9
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 C09K3/14 C23F3/04 C23F3/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2021-05-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20201016
申请日 : 20201016
2021-04-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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