一种图案化量子点膜、量子点发光器件及制作方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种图案化量子点膜、量子点发光器件及制作方法，以改善现有技术利用超声清洗去除部分量子点膜层以实现量子点膜层图案化时，存在会对量子点造成损伤，导致量子点器件效果不佳的问题。所述图案化量子点膜包括：衬底基板，位于所述衬底基板一侧具有多个图案部的量子点膜层；所述图案部包括量子点本体和保护结构，所述保护结构包括由至少两种不同聚合物在预设条件下各自交联形成聚合物网络，并由所述聚合物网络相互穿插形成的互穿网络结构。
基本信息
专利标题 ：
一种图案化量子点膜、量子点发光器件及制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114497410A
申请号 ：
CN202011167191.2
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-10-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
梅文海
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
金俊姬
优先权 ：
CN202011167191.2
主分类号 ：
H01L51/52
IPC分类号 ：
H01L51/52 H01L51/50 H01L51/56
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 51/52
申请日 : 20201027
申请日 : 20201027
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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