一种液晶高分子基板及其加工方法
授权
摘要
本发明公开了一种液晶高分子基板及其加工方法，其中，液晶高分子基板包括复合液晶高分子膜和覆盖在该复合液晶高分子膜的至少一个表面上金属导电层；复合液晶高分子膜包括熔点为Tm1的液晶高分子树脂，和熔点为Tm2的液晶高分子树脂，其中Tm1大于Tm2，熔点为Tm2的液晶高分子树脂占液晶高分子膜的树脂总量的质量百分比为1.0～30.0％。本发明主要解决现有技术中液晶高分子基板存在液晶高分子膜与金属导电层之间的粘结强度较低、或液晶高分子膜的耐热性较差、或液晶高分子膜的高频特性较差的技术问题。
基本信息
专利标题 ：
一种液晶高分子基板及其加工方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112433405A
申请号 ：
CN202011332151.9
公开（公告）日 ：
2021-03-02
申请日 ：
2020-11-24
授权号 ：
CN112433405B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
李良彬赵浩远
申请人 ：
中国科学技术大学
申请人地址 ：
安徽省合肥市包河区金寨路96号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
鄢功军
优先权 ：
CN202011332151.9
主分类号 ：
G02F1/1333
IPC分类号 ：
G02F1/1333
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2021-03-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1333
申请日 : 20201124
申请日 : 20201124
2021-03-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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