阵列基板及其断线修复方法
公开
摘要
本发明涉及显示技术领域,提出一种阵列基板及其断线修复方法。该阵列基板包括设于衬底基板之上的断路导线,以及绝缘设于断路导线远离衬底基板一侧的第一电极,断路导线具有至少两个断路点,断线修复方法包括:对第一电极进行切割形成连接部,连接部与第一电极分离绝缘,且至少两个断路点在衬底基板上的正投影位于连接部在衬底基板上的正投影之内;剥离部分连接部,以使断路导线裸露形成至少两个裸露部,裸露部与断路点重合,或裸露部位于断路导线的靠近断路点的位置;将至少两个裸露部与连接部连接为一体。连接部与第一电极分离绝缘,不会对断路导线产生影响,不会引入其他导线的电压,因此修复后不产生亮暗点,进而提升产品等级。
基本信息
专利标题 :
阵列基板及其断线修复方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114578590A
申请号 :
CN202011383130.X
公开(公告)日 :
2022-06-03
申请日 :
2020-11-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈平刘涛尹磊汤晨胡海涛王彬
申请人 :
合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市新站区新站工业物流园内A组团E区15幢综合楼
代理机构 :
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 :
王辉
优先权 :
CN202011383130.X
主分类号 :
G02F1/13
IPC分类号 :
G02F1/13 G02F1/1333 G02F1/1335 G02F1/1362
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
法律状态
2022-06-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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