基板处理方法以及基板处理装置
专利权的终止
摘要
本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，其在使用含有冰微粒子的处理液进行基板的处理时，可以不产生处理不均而进行均匀的处理，不损伤形成在基板上的被膜。此装置具有存积含有冰微粒子的处理液的清洗槽(10)，向清洗槽(10)内供给含有冰微粒子的处理液并使其在清洗槽内流动然后从清洗槽内排出的单元，以及将基板(W)向清洗槽(10)内搬入并在清洗槽内搬送然后从清洗槽内搬出的单元，在清洗槽(10)内让含有冰微粒子的处理液相对基板(W)进行相对流动，同时使其与基板的主面接触。
基本信息
专利标题 ：
基板处理方法以及基板处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1810389A
申请号 ：
CN200610006315.2
公开（公告）日 ：
2006-08-02
申请日 ：
2006-01-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
川根旬平竹市芳邦
申请人 ：
大日本网目版制造株式会社
申请人地址 ：
日本京都府
代理机构 ：
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人 ：
高龙鑫
优先权 ：
CN200610006315.2
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00 B08B3/04 F25C1/00 G02F1/13 H01L21/304
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2013-03-27 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101416717862
IPC(主分类) : B08B 7/00
专利号 : ZL2006100063152
申请日 : 20060118
授权公告日 : 20100728
终止日期 : 20120118
号牌文件序号 : 101416717862
IPC(主分类) : B08B 7/00
专利号 : ZL2006100063152
申请日 : 20060118
授权公告日 : 20100728
终止日期 : 20120118
2010-07-28 ：
授权
2006-09-27 ：
实质审查的生效
2006-08-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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