X荧光光谱仪真空腔体
授权
摘要
本实用新型公开了X荧光光谱仪真空腔体，包括腔体，包括本体、探头安装部和装配部；本体具有能够形成真空空间的真空内腔以及准直面与准直器相适配；探头安装部与本体一体成型且相对本体呈凹陷状；探头安装部具有安装槽以及用于将探头装配在安装槽内的安装孔；装配部设有多个装配孔用于实现腔体的装配。本实用新型安装槽上间隙安装有密封件，密封件具有凸起，探头挤压凸起使得凸起向外变形，凸起的圆弧面压紧探头以密封探头与安装槽的空隙，显著提高密封性，保证真空内腔的真空环境，而且本体上的安装孔、螺丝孔和定位孔均为半穿孔，一方面实现各元件的装配，另一方面能够有效提高真空内腔的密封性。
基本信息
专利标题 ：
X荧光光谱仪真空腔体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020343483.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-18
授权号 ：
CN212059992U
授权日 ：
2020-12-01
发明人 ：
程鸿林
申请人 ：
苏州博讯仪器有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区旺米街39号
代理机构 ：
苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李艾
优先权 ：
CN202020343483.6
主分类号 ：
G01N23/223
IPC分类号 ：
G01N23/223
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/223
通过用X射线或γ射线辐照样品以及测量X射线荧光
法律状态
2020-12-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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