一种半导体光刻板清洗机
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体光刻板清洗机,其结构包括侧放置块、支撑侧板、顶块、清洗块、输送板、机体、底座,本实用新型一种半导体光刻板清洗机,在使用设备的时候,输送板上的输送带会与其底端上的转动轮相配合,使转动轮进行转动,带动其上的凸轮进行转动与滑动连接板相配合,从而使滑动连接板带动刷动连接块上的清理刷进行左右的往复运动,与输送带相配合,对其进行刷动清理,将杂物刷落下来至收纳槽中,通过改进设备的结构,使设备在进行使用的时候,能够较好的对输送板上的输送带进行清理,避免输送带上粘附杂物,在将清理好的光刻板输送出来的时候对其造成污染。
基本信息
专利标题 :
一种半导体光刻板清洗机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020553462.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-15
授权号 :
CN212442193U
授权日 :
2021-02-02
发明人 :
徐莹
申请人 :
自贡国晶科技有限公司
申请人地址 :
四川省自贡市沿滩区高新工业园区板仓路219号1号厂房B栋1-15陈列室
代理机构 :
深圳峰诚志合知识产权代理有限公司
代理人 :
赵爱婷
优先权 :
CN202020553462.7
主分类号 :
B08B1/02
IPC分类号 :
B08B1/02 B08B15/04 B65G45/18
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B1/00
利用工具,刷子或类似工具的清洁方法
B08B1/02
运动中工件的清洁,如在传送装置上的成卷织物或物品
法律状态
2021-02-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212442193U.PDF
PDF下载