本实用新型适用于光刻板清洗技术领域，一种半导体光刻板清洗装置，其包括机壳；机壳顶端的中部设置有电机，电机的电机轴贯穿于机壳的内部，电机的电机轴末端固定有主动齿，机壳内部的顶端设置有轴承，轴承均匀设置有多组，轴承的底端安装有转杆，转杆的底端贯穿于机壳的底部，转杆的底端设置有清理布刷，转杆的外壁设置有从动齿；机壳底端的背侧固定有输液板，输液板的表面开设有出水孔，机壳内部的右侧设置有水泵，水泵的进水端连接有进水管，水泵的出水端连接有出水管。本实用新型机壳底部设置有出水机构和清理机构，可以对附着在光刻板杂质进行快速的清理，且清理机构采用电力驱动，起到快速清理的效果，提高清理光刻板表面的便捷性。