一种半导体光刻板快速清洗装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种半导体光刻板快速清洗装置，其结构包括主操控箱体、内兜板、顶控层、控制端、显示屏、提示灯、光刻板槽、操作面板、底观察窗，底观察窗嵌入于主操控箱体内部，内兜板安装于主操控箱体内部，显示屏与顶控层间隙配合，提示灯安装于顶控层内部，光刻板槽位于内兜板内部，光刻板槽贯穿于操作面板顶端，本实用新型一种半导体光刻板快速清洗装置，当设备启动在为物件进行清洗时，其物件将位于橡胶环内部，抵在回压板外表面，使其待压膨体内部的气体跑入待膨囊内，其橡胶环贴于物件表面，让软层在内置槽格内进行挤压移动，能够在物件大小不一时，对其进行边缘贴合固定。

基本信息

专利标题：

一种半导体光刻板快速清洗装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920680912.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-05-13

授权号：

CN210080308U

授权日：

2020-02-18

发明人：

黄辉成

申请人：

上海欧勋机电工程有限公司

申请人地址：

上海市崇明区长兴镇潘园公路1800号3号楼38588室(上海泰和经济发展区)

代理机构：

上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

李昌霖

优先权：

CN201920680912.6

主分类号：

B08B13/00

IPC分类号：

B08B13/00 H01L21/67