用于等离子体处理系统的边缘环和包括该边缘环的系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于等离子体处理系统的边缘环，所述边缘环包括：环形体；从所述环形体向下延伸的径向内支腿；以及从所述环形体向下延伸的径向外支腿。空腔位于所述径向内支腿和所述径向外支腿之间。P个凹槽配置为容纳边缘环提升销。所述P个凹槽的间距为360°/P。所述P个凹槽位于所述径向外支腿的径向内表面上，与所述径向外支腿的底表面相邻，其中，P为大于2的整数。还涉及包括该边缘环的系统。
基本信息
专利标题 ：
用于等离子体处理系统的边缘环和包括该边缘环的系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020586711.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-20
授权号 ：
CN212874424U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
克里斯托弗·金博尔汤姆·A·坎普赫马·斯瓦鲁普·莫皮迪维
申请人 ：
朗姆研究公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海胜康律师事务所
代理人 ：
李献忠
优先权 ：
CN202020586711.2
主分类号 ：
H01J37/21
IPC分类号 ：
H01J37/21 H01J37/09 H01J37/305 H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/21
调整聚焦的方法
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
