用于等离子体室的边缘环

授权

摘要

提供一种用于等离子体室的边缘环。所述边缘环被配置为沿着衬底支撑件的外围放置。所述边缘环的特征在于顶部和底部。所述边缘环的顶部具有内部台阶区域、顶部倾斜区域、中间顶部区域和外部台阶区域。所述中间顶部区域在所述顶部倾斜区域和所述外部台阶区域之间延伸，并且所述顶部倾斜区域位于所述内部台阶区域和所述中间顶部区域之间。所述顶部倾斜区域具有顶部倾斜表面。所述边缘环的底部包括内底部环表面、中间底部倾斜表面和外底部环表面。所述中间底部倾斜表面在所述内底部环表面和所述外底部环表面之间。所述外底部环表面具有从所述外底部环表面形成到所述边缘环中的多个螺钉插孔件。

基本信息

专利标题：

用于等离子体室的边缘环

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020930152.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-05-28

授权号：

CN212676216U

授权日：

2021-03-09

发明人：

迈克尔·C·凯洛格亚当·克里斯多夫·梅斯阿列克谢·马拉霍塔诺夫约翰·霍兰德陈志刚菲力克斯·莱布·科扎克维奇亚历山大·马丘什金肖恩·东海林

申请人：

朗姆研究公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

代理机构：

上海胜康律师事务所

代理人：

樊英如

优先权：

CN202020930152.2

主分类号：

H01J37/02

IPC分类号：

H01J37/02 H01J37/32