用于等离子体处理系统的边缘环
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于等离子体处理系统的边缘环，所述边缘环包括：第一环形体，所述第一环形体配置为在等离子体处理期间围绕衬底支撑件。所述第一环形体的径向外表面配置为当与在等离子体处理期间暴露于等离子体的顶部边缘环的第二环形体的相对侧表面相邻布置时限定预定间隙。P个突起从所述第一环形体的所述径向外表面沿朝着所述第二环形体的所述相对侧表面的方向延伸。所述P个突起布置在所述第一环形体的所述径向外表面上的P个间隔的位置中，并且配置为减小在等离子体处理期间预定间隙的变化，其中，P为大于或等于3且小于或等于8的整数。
基本信息
专利标题 ：
用于等离子体处理系统的边缘环
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020586790.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-20
授权号 ：
CN212257344U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
克里斯托弗·金博尔奇亚拉·海伦娜·凯瑟琳娜·贾曼科·麦克弗森达雷尔·欧利希
申请人 ：
朗姆研究公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海胜康律师事务所
代理人 ：
李献忠
优先权 ：
CN202020586790.7
主分类号 ：
H01J37/21
IPC分类号 ：
H01J37/21 H01J37/09
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/21
调整聚焦的方法
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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