显影机喷嘴的清洁装置
授权
摘要
本实用新型提供的显影机喷嘴清洁装置包括：超声波发生器，所述超声波发生器能产生超声波；第一容器，所述第一容器中用以装载第一液体，所述超声波发生器与所述第一容器的外壁连接；第二容器，所述第二容器中用以装载第二液体，所述第二液体用以容置所述显影机喷嘴；所述第二容器位于所述第一容器内部，当所述第一容器中装载所述第一液体时，所述第二容器外壁位于所述第一容器的第一液体中。据此，能够通过第二液体来清洗显影机喷嘴，超声波发生器产生的超声波能够通过第一容器、第一液体、第二容器、第二液体传递至喷嘴处，增强洗涤效果并且能够缩短洗涤时间，减少宕机时间，提高生产效率；能够避免线形缺陷的产生，提高晶片的刻蚀精度。
基本信息
专利标题 ：
显影机喷嘴的清洁装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020648883.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-26
授权号 ：
CN212009276U
授权日 ：
2020-11-24
发明人 ：
张佳健
申请人 ：
上海华力集成电路制造有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室
代理机构 ：
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 ：
郭立
优先权 ：
CN202020648883.8
主分类号 ：
G03F7/30
IPC分类号 ：
G03F7/30 B08B3/12
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/30
用液体消除影像的
法律状态
2020-11-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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