卷料固定装置及原子层沉积设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种卷料固定装置及原子层沉积设备，其中，卷料固定装置包括第一承重座、第二承重座及卷料轴，第一承重座上设置有第一安全夹头，第二承重座与第一承重座相对设置，第二承重座上设置有第二安全夹头，卷料轴具有相对的安装端及驱动端，安装端与第二安全夹头转动连接，驱动端与第一安全夹头转动连接，并用于与卷料装置的驱动件驱动连接，以使卷料轴用于对缠绕设置于其上的待沉积样品进行卷料处理。本实用新型改进了卷料固定装置的结构，提升了卷料固定装置的装配效率，方便组装卷料固定装置的各零部件，节省了装配所需的时间。
基本信息
专利标题 ：
卷料固定装置及原子层沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020673238.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-27
授权号 ：
CN212610892U
授权日 ：
2021-02-26
发明人 ：
李哲峰乌磊聆领安辛
申请人 ：
深圳市原速光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区新安街道群辉路1号优创空间一号楼511-513
代理机构 ：
深圳市世纪恒程知识产权代理事务所
代理人 ：
付海萍
优先权 ：
CN202020673238.1
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-02-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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