预热装置和原子层沉积系统
授权
摘要
本实用新型公开一种预热装置和原子层沉积系统，其中，预热装置包括输送机构，所述输送机构具有输送导轨；第一加热箱，所述第一加热箱设于所述输送导轨的上方，所述第一加热箱开设有第一进气口和第一出气口，所述第一出气口朝向所述输送导轨设置；第一进气组件，所述第一进气组件连通于所述第一进气口，用于给所述第一加热箱内充入气体；第一加热组件，所述第一加热组件设于所述第一加热箱，用于对所述第一加热箱进行加热；所述第一加热箱内的气体经所述第一加热组件加热后，从所述第一出气口排出，以对所述输送导轨上的膜材进行加热。本实用新型旨在对反应物质进行加热，以提高反应效率。
基本信息
专利标题 ：
预热装置和原子层沉积系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020682176.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-27
授权号 ：
CN212223096U
授权日 ：
2020-12-25
发明人 ：
李哲峰乌磊
申请人 ：
深圳市原速光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区新安街道群辉路1号优创空间一号楼511-513
代理机构 ：
深圳市世纪恒程知识产权代理事务所
代理人 ：
肖丹
优先权 ：
CN202020682176.0
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/46 C23C16/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-12-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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