一种用于镀膜的公自转镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种用于镀膜的公自转镀膜装置，包括真空腔体、大转架、小转架，大转架和小转架均设置在真空腔体的内部，其中小转架安装在大转架上且两者之间构成转动配合；大转架连接有公转驱动装置，公转驱动装置设置在真空腔体的外部，公转驱动装置连接驱动大转架在真空腔体内公转，小转架连接有自转驱动装置，自转驱动装置设置在真空腔体的内部，自转驱动装置连接驱动小转架在大转架上的自转；大转架和小转架为圆筒式转架。本实用新型的优点是：通过调节公转与自转的转速比例,可以改变沉积时间的分布，改善薄膜厚度的均匀性，具有制得的薄膜均匀性更好、溅射效率高等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种用于镀膜的公自转镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020699553.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-30
授权号 ：
CN212199404U
授权日 ：
2020-12-22
发明人 ：
余海春戴晓东陈韶华卜钦钦
申请人 ：
光驰科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
代理机构 ：
上海申蒙商标专利代理有限公司
代理人 ：
周宇凡
优先权 ：
CN202020699553.1
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-12-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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