一种真空吸盘及硅片运送装置
授权
摘要
本实用新型公开一种真空吸盘及硅片运送装置，属于光伏生产技术领域，该真空吸盘包括一空心主体；空心主体至少包括用于吸附硅片的第一平面，第一平面为平整平面，且第一平面开设有若干真空孔；真空吸盘还包括一开口，开口设于第一平面以外的空心主体上，相较于传统的U型吸盘，当该空心主体具有一定真空度时，真空孔呈负压并吸附硅片，硅片吸附在该第一平面上，由于该真空吸盘与硅片接触面为整个第一平面，在吸附过程中，真空吸盘与硅片的接触面较大，故真空吸盘对硅片产生的压强较小，从而避免对硅片产生磨损，进而提高硅片质量、提高电池片生产效率，避免了双面镀膜工艺中的由U型吸盘引起的EL发黑问题。
基本信息
专利标题 ：
一种真空吸盘及硅片运送装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020723203.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-06
授权号 ：
CN212161781U
授权日 ：
2020-12-15
发明人 ：
张福庆王贵梅王盼
申请人 ：
晶澳太阳能有限公司
申请人地址 ：
河北省邢台市宁晋县晶龙大街
代理机构 ：
北京市万慧达律师事务所
代理人 ：
顾友
优先权 ：
CN202020723203.4
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683 H01L21/677 H01L31/18
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2020-12-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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