一种真空镀膜设备的供气装置
授权
摘要
本实用新型涉及真空镀膜附属设备技术领域，且公开了一种真空镀膜设备的供气装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有套筒。该真空镀膜设备的供气装置，通过四个供气瓶共同供气，相比单个气瓶供气，四个供气瓶将供气时间延长三至四倍，由四个分支气阀统一管理，当其中一个或两个供气瓶没有气或者气压不足时，仅需开启其他分支气阀，让其补充气压，从而保证供气的稳定性，以此避免镀膜时不均匀的问题，此外，换气的时候，先然后内胆，将没有气的供气瓶转到最低处，然后将连接头与接气管拧动分离，之后将弹簧锁扣打开，接着把封盖拿开，最后将没有气的供气瓶抽出并替换，然后盖上封盖即可，整个换气步骤十分省力，且换气简单。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜设备的供气装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020797231.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-14
授权号 ：
CN212451605U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
曹中华何志飞陈仕俊
申请人 ：
深圳沃飞科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区福海街道新和社区新兴工业园三区一期7号2层东边
代理机构 ：
重庆卓茂专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
许冲
优先权 ：
CN202020797231.0
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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