基于多层陶瓷基板的密封性检测仪器
授权
摘要

基于多层陶瓷基板的密封性检测仪器,其中定位上料装置设在真空接头的一侧,定位上料装置包括上料筒和高度能升降的顶升板;真空接头内具有与质谱检漏仪连接的真空抽气口;真空橡皮密封铺设在真空接头的上表面,且具有与真空抽气口相连通的空腔窗;该空腔窗的长度和宽度均比多层陶瓷基板的长度小1mm以上;机械手能将位于定位上料装置中待测的多层陶瓷基板移栽至空腔窗上方;对中定位装置用于多层陶瓷基板在空腔窗上方的对中定位;喷枪设置在空腔窗的一侧,用于向位于空腔窗上方的多层陶瓷基板施加气压。本申请能准确控制多层陶瓷基板外边缘与空腔窗边缘之间的间距,且压紧位置和压紧力保持一致,同时整个检测过程自动完成。

基本信息
专利标题 :
基于多层陶瓷基板的密封性检测仪器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020836494.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-19
授权号 :
CN212363582U
授权日 :
2021-01-15
发明人 :
王明艳龚毅李明范君
申请人 :
盐城工业职业技术学院
申请人地址 :
江苏省盐城市城南新区解放南路285号
代理机构 :
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 :
石艳红
优先权 :
CN202020836494.8
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20  B25J15/06  B25J11/00  B65G49/06  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2021-01-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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