一种离子束刻蚀旋转平台
授权
摘要
本实用新型涉及一种离子束刻蚀旋转平台，属于半导体加工领域。旋转平台的上部结构上端面设有基座；基座上端面设有静电卡盘，静电卡盘的下端面内设有若干条静电卡盘内冷却水道；上部结构与下部结构的轴向中心处设有与其内腔体相互贯通的旋转磁流体轴；上部结构的下端设有延伸部，延伸部延伸至下部结构的腔体内；下部结构的腔体内高扭矩电机；高扭矩电机布置在下部结构的腔体内，高扭矩电机与旋转磁流体轴相连并驱动转动；旋转磁流体轴的顶端与静电卡盘相固定；上部结构的腔体内位于基座的下端面设有顶针装置。离子束刻蚀旋转平台为上下圆柱体结构，结构紧凑、简单，区分明显，旋转平台为上下圆柱体结构，结构区分明显，重量较小，安装维护方便。
基本信息
专利标题 ：
一种离子束刻蚀旋转平台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020946526.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-29
授权号 ：
CN211957594U
授权日 ：
2020-11-17
发明人 ：
程实然郭颂陈兆超李娜王铖熠刘海洋胡冬冬许开东
申请人 ：
北京鲁汶半导体科技有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区北京经济技术开发区经海二路28号4幢2层203
代理机构 ：
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 ：
李想
优先权 ：
CN202020946526.X
主分类号 ：
H01J37/20
IPC分类号 ：
H01J37/20 H01J37/32 H01L21/687
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/20
物体或材料的支承或定位装置；与支架相联的光阑或透镜的调整装置
法律状态
2020-11-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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