一种用于离子束刻蚀设备的新型托盘
授权
摘要
一种用于离子束刻蚀设备的新型托盘，涉及芯片技术领域。包括托盘本体和上盖。托盘本体的上表面开设有多个用于容纳产品的容纳槽，托盘本体下表面开设有多个散热槽，每个容纳槽均对应设置有一个散热槽。散热槽内设置有多个散热片，散热片平行、间隔设置且均垂直于散热槽的槽底，相邻两个散热片之间具有间隙，散热片开设有用于将相邻两个间隙连通的缺口。托盘本体还开设有用于将散热槽和容纳槽连通的连通孔，连通孔分布于间隙。上盖开设有用于使位于容纳槽中的产品露出的露出孔，露出孔略小于容纳槽的槽口，上盖可拆卸地盖合于托盘本体的上表面。其对产品固定作用好，同时还能进一步加强散热效率。
基本信息
专利标题 ：
一种用于离子束刻蚀设备的新型托盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920946981.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-21
授权号 ：
CN209880537U
授权日 ：
2019-12-31
发明人 ：
李俊霖
申请人 ：
四川科尔威光电科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市高新区世纪城南路599号天府软件园D6栋505号
代理机构 ：
成都慕川专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李小金
优先权 ：
CN201920946981.7
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2019-12-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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