一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统
授权
摘要
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统，其特征在于：所述监控系统包括两组或两组以上可分别独立形成监控光路的光源发送器和光源接收器，两路或两路以上所述监控光路均穿透所述镀膜基片且沿所述镀膜基片上的薄膜覆膜延伸方向间隔布置，所述光源接收器连接有将所述监控光路的光信号转化为可反映所述镀膜基片上薄膜厚度信息的数据处理器。本实用新型的优点是：可适用不同规格的成膜基片，且不需要调整光轴，使用方便；能够精确确定成膜基片上合格区域的范围，确保镀膜效益的最大化；监控系统还可以在镀膜过程进行中间测量光谱，进行修正，提高镀膜精度。
基本信息
专利标题 ：
一种光学薄膜成膜直接式光学监控系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021180602.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-23
授权号 ：
CN212692796U
授权日 ：
2021-03-12
发明人 ：
吴萍長家武彦徐波張詠麟佐藤文哉上川尚河崎直樹汪洋龙汝磊江耔昊潘书跃马辉
申请人 ：
光驰科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
代理机构 ：
上海申蒙商标专利代理有限公司
代理人 ：
周宇凡
优先权 ：
CN202021180602.7
主分类号 ：
G01B11/06
IPC分类号 ：
G01B11/06 C23C14/54 G02B1/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
G01B11/06
用于计量厚度
法律状态
2021-03-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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