一种分布反馈式面发射激光器
授权
摘要
本实用新型涉及激光器技术领域，提供了一种分布反馈式面发射激光器，包括由上而下依次布设的衬底、中间层、接触层以及金属层，激光器还包括掩埋在中间层靠近所述接触层的部分中的光栅层。本实用新型通过将光栅层掩埋在中间层靠近接触层的部分中，能够完全保证接触层不被损伤，使工艺处理可靠，容错率高，从而明显有效地提高良率；光栅掩埋在结构内部，可以大大提高芯片表面的平整度，甚至可以得到完美的平整度，从而能够实现完全的镜面反射，进而保证了贴片质量，避免由于之前发明的表面的平整度不好导致的光的极化度不高，键合质量不高的隐患；采用阻挡层，可以精确地控制光栅的刻蚀深度，同时不用担心接触层被损伤和移出的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种分布反馈式面发射激光器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021378557.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-14
授权号 ：
CN212366422U
授权日 ：
2021-01-15
发明人 ：
蔡建新
申请人 ：
武汉仟目激光有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区汤逊湖北路33号华工科技园·创新基地13栋1单元1层01号
代理机构 ：
北京汇泽知识产权代理有限公司
代理人 ：
胡建文
优先权 ：
CN202021378557.6
主分类号 ：
H01S5/12
IPC分类号 ：
H01S5/12 H01S5/10
法律状态
2021-01-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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