一种改善边缘电池片膜层均匀性的载板

授权

摘要

本实用新型公开了一种改善边缘电池片膜层均匀性的载板，包括载板本体、框格和硅片，所述载板本体由多个阵列框格组成，所述硅片可放入框格内并构成上镀膜载板或下镀膜载板，所述载板本体的两侧开设有多个工艺孔，该工艺孔的孔径为1‑5mm,且工艺孔和载板本体形成夹角；本实用新型的有益效果是：通过在载板两侧边缘位置加工多个工艺孔,开孔直径为3mm,夹角为60°,每框格开孔10‑12个，有助于平衡上下压差,起到导流作用,使得载板四方向的压力更加均衡,有助于提高成膜质量；通过在上镀膜载板中设置稳固机构，使得载板装载硅片由输送设备输送至设备工艺腔内时，减少硅片的撞击，减少硅片所受的损坏，延长硅片的使用寿命。

基本信息

专利标题：

一种改善边缘电池片膜层均匀性的载板

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021442650.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-21

授权号：

CN212365936U

授权日：

2021-01-15

发明人：

周桂宏

申请人：

南京仁厚科技有限公司

申请人地址：

江苏省南京市秦淮区大明路105号205室

代理机构：

常州市科谊专利代理事务所

代理人：

孙彬

优先权：

CN202021442650.9

主分类号：

H01L21/673

IPC分类号：

H01L21/673 H01L31/18